| 商标名称 | 图形 | 注册号/申请号 | 3412022 |
| 国际分类号 | 40 | 申请日期 | 2002-12-20 00:00:00.0 |
| 申请人名称(中文) | 南亚科技股份有限公司 查看TA所有商标 | 申请人地址(中文) | 台湾桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |
| 申请人名称(英文) | 申请人地址(英文) | ||
| 商标图像 |
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| 类似群 | 4001|4002 | 商品服务列表 | 晶圆之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械研磨加工(替他人)；晶片之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械研磨加工(替他人)；半导体之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械研磨加工(替他人)；集成电路之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械研磨加工(替他人)；晶圆之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械处理(替他人)；晶片之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械处理(替他人)；半导体之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械处理(替他人)；集成电路之微影、蚀刻、薄膜、扩散离子植入及化学机械处理(替他人)；晶圆装配(替他人)；晶片装配(替他人)；半导体装配(替他人)；集成电路装配(替他人)；晶圆封装加工(替他人)；晶片封装加工(替他人)；半导体封装加工(替他人)；集成电路封装加工(替他人)；光罩装配(替他人)；光罩封装加工(替他人)；电子或电脑装配(替他人) |
| 初审公告期号 | 926 | 注册公告期号 | 938 |
| 初审公告日期 | 2004-05-07 | 注册公告日期 | 2004-08-07 |
| 专用权期限 | 2004-08-31至2014-08-06 | ||
| 后期指定日期 | 国际注册日期 | ||
| 优先权日期 | - | 代理人名称 | 隆天国际知识产权代理有限公司 |
| 指定颜色 | 否 | 商标类型 | |
| 是否共有商标 | - | 备注 | 商标续展完成 |
| 商标流程 |
1、2002-12-20 商标注册申请中 2、2004-03-05 注册申请初步审定 3、2004-08-31 商标已注册 4、2014-04-30 变更商标申请人/注册人名义/地址中 5、2014-12-12 变更商标申请人/注册人名义/地址完成 6、2014-04-30 商标续展中 7、2014-12-10 商标续展完成 |
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