| 商标名称 | 新巨光电 XJ PHOTOELECTRIC | 注册号/申请号 | 16462685 |
| 国际分类号 | 1 | 申请日期 | 2015-03-10 00:00:00.0 |
| 申请人名称(中文) | 北京巨玻光电技术有限公司 查看TA所有商标 | 申请人地址(中文) | 北京市平谷区兴谷经济开发区6区305-503号 |
| 申请人名称(英文) | 申请人地址(英文) | ||
| 商标图像 |
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| 类似群 | 0102|0102|0102|0104|0104|0104|0106|0106|0106|0107 | 商品服务列表 | 工业用二氧化钛；氧化锆；莹石化合物；玻璃着色化学品；烧结用颗粒状和粉状陶瓷物质；镜头防污剂；非医用、非兽医用化学试剂；实验室分析用化学品（非医用、非兽医用）；科学用化学制剂（非医用、非兽医用）；摄影用化学制剂 |
| 初审公告期号 | 注册公告期号 | ||
| 初审公告日期 | 注册公告日期 | ||
| 专用权期限 | - | ||
| 后期指定日期 | 国际注册日期 | ||
| 优先权日期 | - | 代理人名称 | 北京畅维佳知识产权代理有限公司 |
| 指定颜色 | 商标类型 | ||
| 是否共有商标 | - | 备注 | 商标注册申请受理通知书发文 |
| 商标流程 |
1、2015-03-10 商标注册申请中 2、2015-07-23 商标注册申请受理通知书发文 |
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